Шарапов Валерий Михайлович

Работа посвящена исследованию особенностей формирования тонких вольфрамовых плёнок, образующихся в результате распыления вольфрамовой мишени дейтериевой плазмой магнетронного разряда. Показано, что содержание дейтерия в плёнке сравнимо с концентрацией осаждённых атомов вольфрама. Захваченный дейтерий находится в порах, формируемых в процессе роста поверхностного слоя. Расстояние между распыляемой мишенью и подложкой, на которой формируется плёнка, является важным параметром, определяющим характеристики плёнок. При увеличении этого расстояния уменьшается количество соосаждённого дейтерия, что приводит к уменьшению пористости и увеличению плотности плёнок.