Другие журналы

Верстов В.А.

Высокопроизводительный алгоритм восстановления графовых моделей представления топологии сбис для технологии двойного шаблона
Молодежный научно-технический вестник # 10, октябрь 2012
УДК: 004
Одним из основных направлений развития литографии согласно документам ITRS [4] является технология двойного шаблона. Для использования технологии двойного шаблона необходимо провести декомпозицию исходного топологического слоя на два новых. Однако сложность расчетов при проектировании и производстве СБИС увеличивается с переходом к меньшим топологическим нормам. В настоящий момент для производства шаблонов необходимо обрабатывать файлы описания топологии объемом в десятки гигабайт. Этот факт приводит к необходимости эффективно использовать вычислительные ресурсы высокопроизводительных вычислительных систем.
 
ПОИСК
 
elibrary crossref ulrichsweb neicon rusycon
 
ЮБИЛЕИ
ФОТОРЕПОРТАЖИ
 
СОБЫТИЯ
 
НОВОСТНАЯ ЛЕНТА



Авторы
Пресс-релизы
Библиотека
Конференции
Выставки
О проекте
Rambler's Top100
Телефон: +7 (915) 336-07-65 (строго: среда; пятница c 11-00 до 17-00)
  RSS
© 2003-2024 «Наука и образование»
Перепечатка материалов журнала без согласования с редакцией запрещена
 Тел.: +7 (915) 336-07-65 (строго: среда; пятница c 11-00 до 17-00)