Другие журналы
|
Верстов В.А.
Высокопроизводительный алгоритм восстановления графовых моделей представления топологии сбис для технологии двойного шаблона
Молодежный научно-технический вестник # 10, октябрь 2012 УДК: 004 Одним из основных направлений развития литографии согласно документам ITRS [4] является технология двойного шаблона. Для использования технологии двойного шаблона необходимо провести декомпозицию исходного топологического слоя на два новых. Однако сложность расчетов при проектировании и производстве СБИС увеличивается с переходом к меньшим топологическим нормам. В настоящий момент для производства шаблонов необходимо обрабатывать файлы описания топологии объемом в десятки гигабайт. Этот факт приводит к необходимости эффективно использовать вычислительные ресурсы высокопроизводительных вычислительных систем.
|
|
||||||||||||||||||||||||||||||||
|